涡流计算设置和气隙磁密大小

小军

我的问题有以下几个:
1、在二维瞬态场中计算涡流损耗，我施加电压源激励，计算结果很快就可以收敛，但施加电流源激励时，收敛周期变得很长，请教问题可能出在哪？两个模型就激励源不同，其他的都一样。
2、RMxprt路计算出来的结果，一键生成二维场模型，对比发现两者的气隙磁密值相差较大，大的相差将近0.1T,由于我现阶段缺少实验数据进行确认，所以我想问的是，这两者哪个的参考价值更大？一般我会选择场计算的结果，但我现在不敢确定，
谢谢

小军

自己顶一下，求帮助