moque 发表于 2009-4-5 14:41

磁桥处磁密高达4T?

本帖最后由 moque 于 2009-4-5 14:45 编辑

flux2d里面磁桥宽度0.8，磁密值有4T，不大可能吧，同样的模型以及材料在ansoft里面磁桥处磁密只有2.5T,直接导致的后果就是气隙磁密相差0.2T左右，哪个对？剖分都已经比较细了，都有三万多个单元。

磁化曲线用的微特电机设计手册上的DW315-50，盼回答

watchingu 发表于 2009-4-7 13:31

我也遇到了类似的问题，按照实际的磁化曲线算出来的磁场强度要比实际测量值高出近80%。最后通过调低磁饱和强度才勉强接近实际值，不知道有没有好办法。

dianmu111 发表于 2010-12-29 13:39

磁桥的设计方面较为困惑。

dianmu111 发表于 2010-12-29 13:40

长度和宽度，有没有个大概的范围啊？？？

chenjinhua024 发表于 2010-12-29 15:16

用路算试一试，比较两个气隙磁密

张老五 发表于 2010-12-29 20:57

4T是不可能滴，2.5T基本上也是不可能滴，电工纯铁大概也达不到2.5T，也许超导可以

lijo 发表于 2011-1-3 06:26

Oh my god, 4 Teslas, In FEABH curve has to cover high values of induction by problems of convergence of the algorithm N-R... but so great is a mistake
页: [1]
查看完整版本: 磁桥处磁密高达4T?